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Polymeric Rulers for Scaling Down Nanostuctures Generated by Nanoimprint Lithography

등록일
2008년 8월 12일 12시 11분 34초
접수번호
1352
발표코드
36P266포 이곳을 클릭하시면 발표코드에 대한 설명을 보실 수 있습니다.
발표시간
금 <발표Ⅳ>
발표형식
포스터
발표분야
재료화학
저자 및
공동저자
지영식, 박형주1, 이초연2, 이재종3, 윤완수
한국표준과학연구원 나노소자연구단, Korea
1한국과학기술원 화학과, Korea
2충북대학교 재료공학과, Korea
3한국기계연구원 나노기계연구본부, Korea
We demonstrated polymeric ruler lithography, an alternative form of molecular ruler lithography, as a strategy for scaling down and transforming metallic nanostuctures generated by nanoimprint lithography in large area. In particluar, polymeric rulers were adopted for facile fabrication of polymeric resist with controllable thicknesses from a few to tens of nanometers on metallic surfaces. They were constructed by a highly controllable surface-initiated, atom transfer radical polymerization of methyl methacrylate. Metallic nanostructures of sub-50-nm dimensions with large areas could be formed on silicon oxide substrates by using this strategy. We believe that the hybrid nanolithographic technique would provide a new possiblity to contruct various functional nanostructures.

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