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나노패터닝을 위한 블록공중합체 박막의 애피택시 자기조합방법

등록일
2005년 8월 2일 17시 14분 34초
접수번호
0030
발표코드
금2G11심 이곳을 클릭하시면 발표코드에 대한 설명을 보실 수 있습니다.
발표시간
금 17시 : 00분
발표형식
심포지엄
발표분야
고분자화학 - 고분자 나노 정보 소재 (Polmeric Nanomaterials for Information Technology)
저자 및
공동저자
김상욱
KAIST 신소재공학과,
블록공중합체 박막에 형성되는 자기조합구조를 이용한 나노구조제작법에 대한 연구들이 많은 관심을 모으고 있다. 이는 50나노미터 이하 수준의 주기를 가지를 다양한 패턴들을 병렬적 프로세스를 통하여 제작할 수 있는 장점을 가지고 있기 때문이다. 그러나 이러한 블록공중합체 나노구조들을 실제 디바이스 제작 공정에 적용하기 위해서는 자연적으로 형성되는 불규칙적인 나노구조를 원하는 형태로 조절하는 공정을 확립하는 것이 가장 시급한 과제로 남아있었다. 본 발표에서는 블록공중합체가 형성하는 나노구조와 일치하는 수준의 표면패턴을 형성시킨후 그 위에서 블록공중합체의 나노구조 형성을 유도하는 애피택시 자기조합현상을 개발하여 블록공중합체가 형성하는 라멜라 구조를 일체의 결함없이 원하는 형태로 조절하는 내용을 다룰 것이다. 특히 블록공중합체와 일반 고분자와의 블렌드 시스템을 도입하여 ‘ㄱ’ 자 형태등 꺾은 선 패턴에서도 표면패턴에 따라 완벽하게 조절된 나노구조를 얻을 수 있다는 결론을 얻음으로써 좀 더 다양한 형태의 패턴 제작에 블록공중합체 자기조합구조를 이용할 수 있는 가능성을 확인하였다.

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