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Atomic Force Microscopy Lithography for Nanostructure Fabrication using CNT Tip

등록일
2009년 8월 14일 14시 34분 12초
접수번호
1063
발표코드
34P204포 이곳을 클릭하시면 발표코드에 대한 설명을 보실 수 있습니다.
발표시간
목 <발표Ⅰ>
발표형식
포스터
발표분야
물리화학
저자 및
공동저자
SONGYIBIN, 유재범, 주해나, 권광민1, 이해원
한양대학교 화학과, Korea
1한양대학교 나노공학과, Korea
Abstract Many technologies have been developed as new generation lithography, such as extreme UV lithography, electron beam lithography, atomic force microscopy (AFM) lithography and so on. As the technique which can be used in ambient condition, AFM lithography is widely used for nanopattern fabrication. Especially, carbon nanotube(CNT) tips, with their high aspect ration and small diameter, are very important for high resolution pattern fabrication. Polymer copolymerized by methylmethacrylate and 4-biphenyl sulfonium triflic benzyl methacrylate was applied to CNT tip lithography. Cross-linked resist pattern with high resolution and aspect ratio was fabricated by controlling the voltage, lithography speed and oscillation amplitude.

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