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대한화학회 제105회 학술발표회 및 총회 Three-Dimensional Nanofabrication with Nanotransfer Printing using Atomic Layer Deposition

등록일
2010년 2월 12일 16시 03분 34초
접수번호
0157
발표코드
39P184포 이곳을 클릭하시면 발표코드에 대한 설명을 보실 수 있습니다.
발표시간
금 <발표Ⅳ>
발표형식
포스터
발표분야
재료화학
저자 및
공동저자
김수환, 성명모
한양대학교 화학과, Korea
We report a new patterning technique of inorganic materials by using thin-film transfer printing (TFTP) with atomic layer deposition. This method consists of the atomic layer deposition (ALD) of inorganic thin film and a nanotransfer printing (nTP) that is based on a water-mediated transfer process. In the TFTP method, the Al2O3 ALD growth occurs on FTS-coated PDMS stamp without specific chemical species, such as hydroxyl group. The CF3-terminated alkylsiloxane monolayer, which is coated on PDMS stamp, provides a weak adhesion between the deposited Al2O3 and stamp, and promotes the easy and complete release of Al2O3 film from the stamp. And also, the water layer serves as an adhesion layer to provide good conformal contact and form strong covalent bonding between the Al2O3 layer and Si substrate. Thus, the TFTP technique is potentially useful for making nanochannels of various inorganic materials.

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