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대한화학회 제105회 학술발표회 및 총회 투명도전성 박막제조용 인듐저감 조성물 연구

등록일
2010년 2월 16일 12시 51분 53초
접수번호
0185
발표코드
39P189포 이곳을 클릭하시면 발표코드에 대한 설명을 보실 수 있습니다.
발표시간
금 <발표Ⅳ>
발표형식
포스터
발표분야
재료화학
저자 및
공동저자
박종일
포항산업과학연구원 원천소재연구본부, Korea
FPD용 투명 도전막의 제조에 핵심소재로 사용되고 있는 ITO 타켓재 물질에서 인듐 소재의 자원고갈로 인해 대체 또는 저감 기술이 요구되고 있다. 본 연구에서는 인듐 사용량 저감을 위한 인듐-갈륨-아연 산화물의 복합체의 조성물에 대한 연구를 수행하였다. In2O3, Ga2O3, 그리고 ZnO를 주성분으로 하는 금속산화물 복합체 제조하고 및 이를 타겟으로 가공하여 스퍼터링하여 투명도전성 박막을 제조하였다. 인듐, 갈륨, 아연 및 산소로 이루어진 (In+Ga)/(In+Ga+Zn)의 원자비가 15~85 at. %의 비율에서 투과율 90% 이상, 100옴/squre 이하의 표면 저항값을 가진 조성을 얻을수 있었다.

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