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제106회 대한화학회 학술발표회, 총회 및 기기전시회 안내 Photo-induced hybrid nanopatterning of titanium dioxide via direct imprint lithography

등록일
2010년 8월 18일 16시 40분 51초
접수번호
1361
발표코드
POLY2-6 이곳을 클릭하시면 발표코드에 대한 설명을 보실 수 있습니다.
발표시간
금 16시 : 40분
발표형식
심포지엄
발표분야
고분자화학 - 나노임프린팅 기술과 기능성 소재
저자 및
공동저자
정준호
한국기계연구원 나노융합기계연구본부, Korea
A novel ultraviolet (UV)-assisted imprinting procedure that employs photosensitive titanium(IV) di-n-butoxide bis(2-ethylhexanoate) is presented for the fabrication ofwell-ordered titaniumdioxide (TiO2) nanostructures at room temperature. The main novelty of this technique is the use of the photosensitive titanium organic compound, rather than a commonly used UV-curable resin, for direct UV-assisted nanoimprint lithography.Fourier transform infrared andX-ray photoelectron spectroscopy studies suggest that exposure to UV light resulted in the gradual removal of organic groups from films prepared from titanium(IV) di-n-butoxide bis(2-ethylhexanoate) photochemically and successively converted the films to TiO2 at roomtemperature. This approach allows direct fabrication ofTiO2 nanopatternswith lines down to 35 nm in width, hole arrays of 265 nm in diameter, and three-dimensional TiO2 hybridmicro/nano-patterns without observable defects for use in applications where ordered surface nanostructures are required, such as photovoltaics, photonics, and optical waveguides.

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