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제106회 대한화학회 학술발표회, 총회 및 기기전시회 안내 나노임프린트 리소그래피 시스템 기술

등록일
2010년 8월 25일 15시 02분 38초
접수번호
1471
발표코드
POLY2-3 이곳을 클릭하시면 발표코드에 대한 설명을 보실 수 있습니다.
발표시간
금 15시 : 00분
발표형식
심포지엄
발표분야
고분자화학 - 나노임프린팅 기술과 기능성 소재
저자 및
공동저자
이재종
한국기계연구원, Korea
나노제품을 생산할 수 있는 나노기계는 반도체장비를 포함하여 최근에 세계적으로 중요한 기술로 인식되고 있는 나노임프린트 기술(NIL), 전자빔리소그래피(EBML), 극자외선 리소그래피(EUVL), 주사식프로브현미경(SPM) 등이 있다. 특히, 나노임프린트 기술은 나노형상을 가지고 있는 형틀(몰드)을 반복적으로 사용하여 나노제품을 대량으로 생산할 수 있는 기술이다. 최근에는 나노임프린트 기술을 이용하여 반도체 플래쉬메모리, 나노형상을 이용한 바이오/가스센서, 광통신소자, 단위면적당 1Terabit/in2 이상의 차세대 하드디스크드라이브를 제작할 수 있는 나노기계기술과 공정기술이 개발됨에 따라 다양한 나노제품을 생산할 수 있을 것으로 예상된다. 본 세미나에서는 나노임프린트 장비기술과 장비응용기술에 대해서 소개하고자 한다.

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