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제106회 대한화학회 학술발표회, 총회 및 기기전시회 안내 Fabrication of an All-Layer-Printed TFT-LCD Device via Large-Area UV Imprinting Lithography

등록일
2010년 8월 25일 17시 04분 05초
접수번호
1472
발표코드
POLY2-2 이곳을 클릭하시면 발표코드에 대한 설명을 보실 수 있습니다.
발표시간
금 14시 : 30분
발표형식
심포지엄
발표분야
고분자화학 - 나노임프린팅 기술과 기능성 소재
저자 및
공동저자
이승준
SAMSUNG ELECTRONICS LCD R&D Center, Korea
Nanoimprint lithography (NIL) by ultraviolet (UV) is a technique in which unconventional lithographic patterns are formed on a substrate by curing a suitable liquid resist in contact with a transparent patterned mold, then releasing the freshly patterned material. Here, we introduce various solutions to achieve the sufficient overlay accuracy and technical challenges for resist patterning by UV-imprinting. Also, resist patterning of all layers in TFT and BM layer in CF were carried out using UV-imprinting Lithography to make a 12.1 inch TFT-LCD panel at the resolution of 1280 x 800 lines (125 ppi).

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