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제106회 대한화학회 학술발표회, 총회 및 기기전시회 안내 Silicate Replica Molds for Nanoimprint Lithography

등록일
2010년 8월 31일 14시 02분 52초
접수번호
1562
발표코드
POLY2-4 이곳을 클릭하시면 발표코드에 대한 설명을 보실 수 있습니다.
발표시간
금 15시 : 30분
발표형식
심포지엄
발표분야
고분자화학 - 나노임프린팅 기술과 기능성 소재
저자 및
공동저자
김동표
충남대학교 공업화학과, Korea
Silicate molds were fabricated from two types of inorganic-organic hybrid resins for UV- and thermal-nanoimprint lithography. SiO2-TiO2-PEG resins were used to replicate the features down to 80 nm with high fidelity through both nanoimprint lithography techniques. And the alternative silicate mold with easy releasing properties was fabricated by phase conversion hydrolysis of the cured polyvinylsilazane replica and used to fabricate 30~50 nm patterns through UV- and thermal nanoimprint lithography.

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