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제109회 대한화학회 학술발표회, 총회 및 기기전시회 안내 Molecular Layer Deposition of Titanium Aryloxide

등록일
2012년 2월 16일 18시 02분 06초
접수번호
1271
발표코드
MAT.P-1177 이곳을 클릭하시면 발표코드에 대한 설명을 보실 수 있습니다.
발표시간
4월 25일 (수요일) 18:00~21:00
발표형식
포스터
발표분야
재료화학
저자 및
공동저자
한규석, 성명모
한양대학교 화학과, Korea
We fabricated organic-inorganic hybrid thin films using layer-by-layer vapor phase reaction which are called molecular layer deposition (MLD). Titanium chloride and hydroquinone were used as precursors to deposit hybrid films named titanium aryloxide (Ti-Ao). UV-VIS spectroscopy showed new emerging peak due to ligand metal charge transfer (LMCT). Infrared spectroscopic and X-ray photoelectron spectroscopy were invited to determine the chemical composition. Photo transistor was fabricated adopting Ti-Ao and ZnO with nanohybrid superlattice structure thin film as active layer. The fabricated photo transistor exhibited good photo sensitivity and responsivity compared with ZnO transistor.

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