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제114회 대한화학회 학술발표회, 총회 및 기기전시회 안내 그래핀 유연 기판을 이용한 10나노미터급 플렉서블 나노패터닝

등록일
2014년 8월 29일 10시 03분 56초
접수번호
1378
발표코드
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발표시간
목 13시 : 52분
발표형식
심포지엄
발표분야
고분자화학 - Polymer Self-Assembly and Nanopatterning
저자 및
공동저자
김상욱
한국과학기술원(KAIST) 신소재공학과, Korea
블록공중합체 나노패터닝이나 광리소그라피등 나노패턴공정들은 균일한 두께의 유기박막의 형성이 필요하고 열처리나 노광공정이 요구되어 3차원적인 기판이나 플렉서블한 기판에는 적용이 어려운 것으로 알려져있다. 본 발표에서는 용액공정으로 형성한 그래핀 기판을 기계적으로 유연한 기판으로 이용하여 다양한 3차원적인 구조와 플레서블구조의 표면을 나노패턴화하는 연구들을 소개할 것이다. 더불어 ALD 공정을 통해 블록공중합체 나노패턴의 패턴밀도를 2배향상시켜 PS-b-PMMA 고분자를 이용하여 5나노미터급의 나노패턴을 형성하는 기법도 소개할 것이다.

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