abs

학술발표회초록보기

초록문의 abstract@kcsnet.or.kr

결제문의 member@kcsnet.or.kr

현재 가능한 작업은 아래와 같습니다.
  • 02월 26일 17시 이후 : 초록수정 불가능, 일정확인 및 검색만 가능

제115회 대한화학회 학술발표회, 총회 및 기기전시회 안내 Ni(dmamb)2를 사용한 MgO 기질 위의 NiO 박막의 MOCVD

등록일
2015년 2월 25일 19시 02분 37초
접수번호
1348
발표코드
MAT.P-1159 이곳을 클릭하시면 발표코드에 대한 설명을 보실 수 있습니다.
발표시간
4월 15일 (수요일) 16:00~19:00
발표형식
포스터
발표분야
재료화학
저자 및
공동저자
김성영, 조계인1, 박정희2, 김윤수*
고려대학교 신소재화학과, Korea
1고려대학교 세종캠퍼스 신소재화학과, Korea
2고려대학교 소재화학과, Korea
NiO는 p형 투명 전도성 막으로서 광학적 및 전기적 특성이 우수한 물질이다. 우리는 Ni(dmamb)2 [nickel bis(1-dimethylamino-2-methyl-2-butanolate)]를 선구물질로 사용하여 MgO(100) 기질 위에 NiO 박막을 CVD 방법으로 침착시켰다. Ni(dmamb)2는 상온에서 액체이며 증기압이 75 ℃에서 213 mTorr로 충분히 높다. 기질의 온도는 250-400 ℃ 구간에서 25 ℃ 간격으로 변화시켰다. 박막의 특성을 X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray diffraction (XRD), reflection high-energy electron diffraction (RHEED), scanning electron microscopy (SEM)로 조사하였다.

상단으로