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제117회 대한화학회 학술발표회, 총회 및 기기전시회 안내 Temperature regulated-chemical vapor deposition (TR-CVD): a novel strategy for incorporating metal nanoparticles into mesoporous substrate

등록일
2016년 2월 18일 10시 54분 28초
접수번호
1253
발표코드
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발표시간
목 09시 : 40분
발표형식
구두발표
발표분야
물리화학 - 일반 구두발표 (General Oral Presentation)
저자 및
공동저자
한상욱, 김대한, 박은지, 김일희, 김영독*
성균관대학교 화학과, Korea

We developed a strategy for incorporating NiO nanoparticles into mesoporous Al2O3 with a mean pore size of ~ 12 nm by a simple process: Ni-precursor vapor with atmosphere were filled in a chamber, in which mesoporous Al2O3 was located and the chamber was first kept at ~ 100 oC, at which no chemical reaction between them takes place. Then, the temperature of system was increased to 260 oC, in which deposition of NiO takes place. We show that NiO nanoparticles can not only deposited on the surface but also be incorporated in the 50 μm-deep region of the mesoporous Al2O3 gel. We also demonstrate high CO oxidation activity and reusability of the deactivated NiO/Al2O3 catalysts prepared by the aforementioned method. It is suggested that our strategy can be widely applied for incorporation of the nanoparticles in the mesoporous supports.


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