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초임계 이산화탄소를 이용한 나노패턴웨이퍼의 건식 포토레지스트 제거 기술 개발

등록일
2007년 3월 14일 10시 28분 38초
접수번호
1257
발표코드
금22A3심 이곳을 클릭하시면 발표코드에 대한 설명을 보실 수 있습니다.
발표시간
금 14시 : 30분
발표형식
심포지엄
발표분야
초임계유체기술과 산업적 응용
저자 및
공동저자
한갑수, 임종성, 유기풍
서강대학교 초임계유체기술 연구사업단,
웨이퍼 고집적 기술이 발전되어, 수년내 선폭 45n의 패턴 웨이퍼를 양산하게된다. 이 경우 기존 초순수에 케미컬을 배합하여 패턴웨이퍼로부터 레지스트를 제거하는데 한계에 이르고 있으며, 이를 기술적으로 타개하기위하여, 고밀도 초임계 상태의 기상 이산화탄소를 주용매로 하는 웨이퍼 세정기술에 국제적인 관심이 집중되어 있다. 여기서는 본 사업단에서 추진되고 있는 개발결과를 요약해 소개 하고자 한다.

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