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제108회 대한화학회 학술발표회, 총회 및 기기전시회 안내 UV-enhanced Atomic Layer Deposition of Al2O3 Thin Film for Flexible Substrate

등록일
2011년 8월 5일 16시 08분 35초
접수번호
1585
발표코드
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발표시간
목 <발표Ⅱ>
발표형식
포스터
발표분야
재료화학
저자 및
공동저자
윤관혁, 정희찬, 성명모
한양대학교 화학과, Korea
We have deposited Al2O3 thin films on poly(ethylene terephthalate) (PET) substrates at room temperature by UV-enhanced atomic layer deposition using trimethylaluminum (TMA) and H2O as precursors with UV irradiation. The atomic layer deposition relies on alternate pulsing of the precursor gases onto the substrate surface and subsequent chemisorption of the precursors. In many cases, the surface reactions of the atomic layer deposition are not completed at low temperature. In this experiment, the surface reactions were found to be self-limiting and complementary enough to yield uniform Al2O3 thin films by using UV irradiation at room temperature. The UV light was very effective to obtain the high quality Al2O3 thin films without any defect on polymer substrate. The thickness, density, morphology and electrical property of the Al2O3 thin films were investigated by ellipsometry, XRR, AFM and C-V measurement.

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