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제109회 대한화학회 학술발표회, 총회 및 기기전시회 안내 Study on surface morphology for Nylon 4,6 thin film deposited by Molecular Layer Deposition

등록일
2012년 2월 29일 21시 48분 24초
접수번호
1539
발표코드
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발표시간
4월 25일 (수요일) 18:00~21:00
발표형식
포스터
발표분야
재료화학
저자 및
공동저자
양다솜, 성명모
한양대학교 화학과, Korea
Molycular Layer Deposition(MLD) is based on sequential and self-terminating surface reactions analogous to ALD and results in the formation of self-assembled organic monolayer in each sequence. We fabricated Polyamide 4,6(Nylon) thin film by MLD using Adipoyl chloride and 1,4-butadiamine. Polyamide 4,6 fim was grown at 70℃ and the growth rate is 3.5 Å/cycle. The thickness was measured by Ellipsometer. The surface morphology was investigated by Atomic Force Microscopy(AFM) and roughness is proportional to number of grwing cycles. It can be used as encapsulation layer by fabricaiting superlattice with Aluminum oxide.

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