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Fabication of phtosensitive preceramic Modified-Polyvinylsilazane for pattering by photolithograph

등록일
2008년 2월 14일 12시 03분 20초
접수번호
1354
발표코드
34P235포 이곳을 클릭하시면 발표코드에 대한 설명을 보실 수 있습니다.
발표시간
금 <발표Ⅳ>
발표형식
포스터
발표분야
재료화학
저자 및
공동저자
유향임, 김동표1
충남대학교 바이오 응용화학과,
1충남대학교 공업화학과, Center for Ultramicrochemical Process Systems(CUPS), KAIST, Korea,
Polyvinylsilazane are commonly used for the fabrication of non-oxide ceramic structures usually by thermal curing and then pyrolysis. A Novel highly photo sensitive Polyvinylsilazane was synthesized from commercial Polyvinylsilazane with a diacrylate isocyanates of 1,1-bis(acryloloxyethyl)ethyl isocyanate and the reaction was characterized by 1H-NMRand FT-IR spectroscopy. Through the UV-NIL, nano-patterns were fabricated with a relatively simpler and faster way with UV radiation on the substrate coated with modified Polyvinylsilazane. This can be useful for fabrication of microfludicis or patterning process to replace organic photocurable resins.

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